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鎂合金微弧氧化工藝

2017-06-18 點(diǎn)擊數(shù):2654
微弧氧化技術(shù)是一種綠色環(huán)保的新興表面處理工藝技術(shù)。主要用于對(duì)鋁、鎂、鈦等輕金屬及其合金的表面處理。她能有效地在基體材料表面上原體生長(zhǎng)一層均勻的陶瓷膜。由于其工藝特點(diǎn)明顯,表面處理的性能優(yōu)勢(shì)突出,自該技術(shù)被發(fā)明以來(lái),備受人們的青睞。

鎂合金微弧氧化技術(shù)簡(jiǎn)介

1、工藝特點(diǎn)

  微弧氧化處理是一種在有色金屬表面原位生長(zhǎng)氧化物陶瓷的新技術(shù)。采用微弧氧化技術(shù)對(duì)鎂及其合金材料進(jìn)行表面陶瓷化處理,具有工藝過(guò)程簡(jiǎn)單,占地面積小,工藝處理能力強(qiáng),生產(chǎn)效率高,適用于批量工業(yè)化生產(chǎn)等優(yōu)點(diǎn)。

    微弧氧化電解液不含有毒物質(zhì)和重金屬元素,電解液(環(huán)保型)抗污染能力強(qiáng)和再生重復(fù)使用率高,因而對(duì)環(huán)境污染小,滿足環(huán)保、清潔生產(chǎn)的需要;通過(guò)改變工藝參數(shù)獲取具有不同特性的氧化膜層,以滿足不同用途的需要;也可通過(guò)改變或調(diào)節(jié)電解液的成分使膜層具有某種特性或呈現(xiàn)不同顏色;還可采用不同的電解液對(duì)同一工件進(jìn)行多次微弧氧化處理,以獲取具有多層不同性質(zhì)的陶瓷氧化膜層。

2、性能

  微弧氧化處理后的鎂基零件表面陶瓷膜層具有硬度高(HV 300-1000)、耐蝕性強(qiáng)(CASS鹽霧試驗(yàn)>480h)、絕緣性好(膜阻>100MΩ)、膜層與基底金屬結(jié)合力強(qiáng),陶瓷厚度在10~100微米,使鎂合金表面的耐磨、耐腐蝕、耐熱沖擊及絕緣等性能得到極大提高。而且,表面的陶瓷層比較致密,孔隙率極低,具有很高的耐腐蝕性能,鹽霧腐蝕性能提高5-10倍,綜合解決了實(shí)際應(yīng)用的困擾問(wèn)題,為鎂合金開(kāi)發(fā)應(yīng)用提供了技術(shù)保障,對(duì)“十五”國(guó)家科技攻關(guān)計(jì)劃具有重大意義,其社會(huì)效益和經(jīng)濟(jì)效益將十分顯著。

3、工藝流程

  鎂合金微弧氧化技術(shù)的工藝流程如下:化學(xué)除油(配合超聲波除油效果更好)清洗微弧氧化清洗封閉烘干成品檢驗(yàn)。

4、生產(chǎn)工藝條件工藝影響因素:

   ①合金材料及表面狀態(tài)的影響:微弧氧化技術(shù)對(duì)鎂工件的合金成分要求不高,對(duì)工件表面狀態(tài)也要求不高,一般不需進(jìn)行表面拋光處理。對(duì)于粗糙度較高的工件,經(jīng)微弧氧化處理后表面得到修復(fù)變得更均勻平整;而對(duì)于粗糙度較低的工件,經(jīng)微弧氧化后,表面粗糙度有所提高。

    ②電解質(zhì)溶液及其組分的影響:微弧氧化電解液是獲到合格膜層的技術(shù)關(guān)鍵。不同的電解液成分及氧化工藝參數(shù),所得膜層的性質(zhì)也不同。 

       ③氧化電壓及電流密度的影響:微弧氧化電壓和電流密度的控制對(duì)獲取合格膜層同樣至關(guān)重要。不同的材料和不同的氧化電解液,具有不同的微弧放電擊穿電壓(擊穿電壓:工件表面剛剛產(chǎn)生微弧放電的電解電壓), 

       ④溫度與攪拌的影響:與常規(guī)的陽(yáng)極氧化不同,微弧氧化電解液的溫度允許范圍較寬,可在10~60℃條件下進(jìn)行。雖然微弧氧化過(guò)程工件表面有大量氣體析出,對(duì)電解液有一定的攪拌作用,但為保證氧化溫度和體系組分的均勻,一般需配備電解液攪拌裝置。 

        ⑤微弧氧化時(shí)間的影響:微弧氧化時(shí)間一般控制在10~60min。氧化時(shí)間越長(zhǎng),膜的致密性越好,但其粗糙度也增加。 

       ⑥陰極材料:微弧氧化的陰極材料采用不溶性金屬材料,可采用碳鋼,不銹鋼或鎳。 ⑦膜層的后續(xù)處理:鎂基工件經(jīng)微弧氧化后可不經(jīng)后處理直接使用,也可對(duì)氧化后的膜層進(jìn)行封閉,涂漆,機(jī)械拋光等后處理,進(jìn)一步提高膜的裝飾性。

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